[发明专利]制作悬浮结构的方法无效
| 申请号： | 200610100646.2 | 申请日： | 2006-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN101096267A | 公开（公告）日： | 2008-01-02 |
| 发明（设计）人： | 康育辅;杨辰雄 | 申请（专利权）人： | 探微科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种制作悬浮结构的方法。首先，提供基底，基底上包括加热硬化的图案化光致抗蚀剂层。之后，蚀刻硬化的图案化光致抗蚀剂层，使图案化光致抗蚀剂层具有预定的侧壁形状。接着在部分的基底与部分的图案化光致抗蚀剂层上方形成结构层，随后再进行干式蚀刻工艺以移除图案化光致抗蚀剂层，使结构层成为悬浮结构。 | ||
| 搜索关键词： | 制作 悬浮 结构 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制作悬浮结构的方法，包括：提供基底，该基底上包括第一图案化光致抗蚀剂层；加热该第一图案化光致抗蚀剂层，使该第一图案化光致抗蚀剂层硬化，并使该第一图案化光致抗蚀剂层的边缘圆滑化；蚀刻该第一图案化光致抗蚀剂层，以调整该第一图案化光致抗蚀剂层的侧壁形状；在该基底上方形成第二图案化光致抗蚀剂层，该第二图案化光致抗蚀剂层暴露出部分的该第一图案化光致抗蚀剂层与部分的该基底；在该基底、该第一图案化光致抗蚀剂层与该第二图案化光致抗蚀剂层上方形成结构层；进行剥离工艺以移除该第二图案化光致抗蚀剂层与位于该第二图案化光致抗蚀剂层上方的该结构层；以及进行干式蚀刻工艺以移除该第一图案化光致抗蚀剂层，使该结构层成为悬浮结构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于探微科技股份有限公司，未经探微科技股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200610100646.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：导流环加强型环型冷却风扇
- 下一篇：调光板结构
