[发明专利]中孔性的二氧化硅及其制备方法和用途无效
| 申请号： | 200610100977.6 | 申请日： | 1998-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN1970446A | 公开（公告）日： | 2007-05-30 |
| 发明（设计）人： | 佐藤静司;清水正 | 申请（专利权）人： | 旭化成株式会社 |
| 主分类号： | C01B33/113 | 分类号： | C01B33/113;B41M5/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王海川;樊卫民 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供亲水性强的中孔性的二氧化硅及使用廉价的原料在温和条件下制备中孔性的二氧化硅的方法，并提供吸收性强且防水性、耐光性优越的油墨吸收剂及记录纸。即，本发明涉及(1)中孔性的二氧化硅，其特征在于中孔范围的平均细孔直径为1.5－10nm，BET法氮吸附比表面积为500－1400m2/g，25℃水单分子吸附量在1.7g/nm2以上；(2)中孔性的二氧化硅的制备方法，其特征在于从混合活性二氧化硅和中性模型而制备的复合体中除去模型；(3)油墨吸收剂，其特征在于含有中孔性的二氧化硅；(4)由上述油墨吸收剂和一种溶剂制备的油墨吸收剂浆料；(5)记录纸，其特征是含有上述油墨吸收剂。 | ||
| 搜索关键词： | 中孔性 二氧化硅 及其 制备 方法 用途 | ||
【主权项】：
1.一种中孔性的二氧化硅，其特征在于中孔范围的平均细孔直径为1.5-10nm，BET法氮吸附比表面积为500-1400m2/g，25℃水单分子吸附量在1.7个/nm2以上。
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