[发明专利]一种制造使用硫属元素化物存储器的方法有效
申请号: | 200610101109.X | 申请日: | 2006-07-03 |
公开(公告)号: | CN1921169A | 公开(公告)日: | 2007-02-28 |
发明(设计)人: | 薛铭祥 | 申请(专利权)人: | 旺宏电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L45/00 | 分类号: | H01L45/00;H01L27/24;G11C11/56 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 程大军;过晓东 |
地址: | 中国*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种硫属元素化物存储器单元,包含下电极、硫属元素化物层及上电极。所述下电极包含锥形洞。硫属元素化物层在下电极的锥形洞中形成。硫属元素化物层的一边与下电极相邻。上电极在硫属元素化物层所形成的第二洞中形成,使得上电极基本上填充第二洞。上电极与硫属元素化物层的另一边相邻。通过使电流通过上电极及下电极来储存及取出资料。通过非等向性蚀刻或通过侧壁应用以形成下电极中的锥形洞。使用额外的介电层或通过使用额外导电层与下所述电极形成p-n接面,以缩小电流流过的截面积。 | ||
搜索关键词: | 一种 制造 使用 元素 存储器 方法 | ||
【主权项】:
1.一种硫属元素化物的存储器单元,其包含:包含锥形洞的低电极,该锥形洞逐渐收敛至基本上单点的侧壁;硫属元素化物层,在所述低电极的锥形洞中形成,且所述硫属元素化物层的第一边与低电极相邻;以及高电极,在所述硫属元素化物层所形成的第二洞中形成,使得该高电极基本上填充所述的第二洞,且所述高电极与硫属元素化物层的第二边相邻。
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