[发明专利]剥离膜用硅氧烷组合物有效
| 申请号： | 200610101646.4 | 申请日： | 2006-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN1944538A | 公开（公告）日： | 2007-04-11 |
| 发明（设计）人： | 山本谦児;中岛勉 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C08L83/04 | 分类号： | C08L83/04;C09D5/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 孙秀武;邹雪梅 |
| 地址： | 日本东京都千*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种可形成对塑料薄膜的密合性改良了的剥离层的硅氧烷组合物。该硅氧烷组合物的特征在于，在以聚有机硅氧烷为主成分的剥离膜用硅氧烷组合物中，相对于100质量份上述(A)聚有机硅氧烷，含有下述物质：0.3～3质量份(B)二苯基烷烃衍生物与具有至少一个有机氧基的聚有机硅氧烷衍生物的加成物；和0.1～2质量份(C)与氮原子键合的取代基中的至少一个具有环氧基或三烷氧基甲硅烷基的异氰脲酸酯。 | ||
| 搜索关键词： | 剥离 膜用硅氧烷 组合 | ||
【主权项】：
1.一种硅氧烷组合物，其为以聚有机硅氧烷为主成分的剥离膜用硅氧烷组合物，其特征在于，相对于100质量份上述(A)聚有机硅氧烷，含有：(B)二苯基烷烃衍生物与具有至少一个有机氧基的聚有机硅氧烷衍生物的加成物0.3～3质量份；和(C)0.1～2质量份异氰脲酸酯，所述异氰脲酸酯的与氮原子键合的取代基中的至少一个具有环氧基或三烷氧基甲硅烷基。
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