[发明专利]气体阻隔性薄膜、基材薄膜及有机电致发光元件无效
| 申请号： | 200610101931.6 | 申请日： | 2006-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN1899815A | 公开（公告）日： | 2007-01-24 |
| 发明（设计）人： | 岩永宏;樱井靖也 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | B32B33/00 | 分类号： | B32B33/00;B32B9/00;C08L101/12;C08J7/06;H01L51/56 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 陈建全 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供具有适于连续成膜的高生产率的高气体阻隔性薄膜。其包含基材薄膜和在该基材薄膜上具有的气体阻隔性层叠体，该气体阻隔性层叠体的构成为：具有至少1个由以硅氧氮化物层、硅氧化物层、硅氧氮化物层的顺序相互邻接配置的3层所构成的单元。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 阻隔 薄膜 基材 有机 电致发光 元件 | ||
【主权项】：
1.一种气体阻隔性薄膜，其包含基材薄膜和在该基材薄膜上具有的气体阻隔性层叠体，其特征在于该气体阻隔性层叠体具有至少一个由以硅氧氮化物层、硅氧化物层、硅氧氮化物层的顺序相互邻接配置的3层所构成的单元。
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