[发明专利]基板的旋转处理装置有效
| 申请号： | 200610101932.0 | 申请日： | 2006-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN1912697A | 公开（公告）日： | 2007-02-14 |
| 发明（设计）人： | 西部幸伸;宫迫久显;今冈裕一 | 申请（专利权）人： | 芝浦机械电子株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333;H01L21/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 胡建新 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的旋转处理装置，具备：回转工作台，设于外杯状体内，在上表面保持基板的状态下被控制马达回转驱动；内杯状体，设于外杯状体内，被设置为在上端比回转工作台的上表面低的下降位置和上端比保持在回转工作台上的上述基板高的上升位置之间，可被上下驱动机构上下驱动；第1反射板，设于外杯状体的内周部，在内杯状体处于下降位置的状态下使基板回转并用第2处理液进行处理时，使从基板的周边部分飞散的第2处理液向下方反射；以及第2反射板，设置在内杯状体的内周部，在内杯状体处于上升位置的状态下使基板回转并用第1处理液进行处理时，使从基板的周边部分飞散的第1处理液向下方反射。 | ||
| 搜索关键词： | 旋转 处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种旋转处理装置，在使基板旋转的同时，用第1处理液和第2处理液处理该基板，其特征在于，具备：外杯状体；回转工作台，设于该外杯状体内，在上表面保持上述基板的状态下，被回转驱动机构回转驱动；内杯状体，设于上述外杯状体内，被设置为可在上端比上述回转工作台的上表面低的下降位置和上端比保持在上述回转工作台上的上述基板高的上升位置之间，被上下驱动机构上下驱动；第1反射机构，设于上述外杯状体的内周部，在上述内杯状体处于下降位置的状态下，使上述基板回转并用上述第2处理液进行处理时，使从上述基板的周边部分飞散的上述第2处理液向下方反射；以及第2反射机构，设置在上述内杯状体的内周部，在该内杯状体处于上升位置的状态下，使上述基板回转并用上述第1处理液进行处理时，使从上述基板的周边部分飞散的上述第1处理液向下方反射。
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