[发明专利]用于对半导体废气进行处理的净气器有效

专利信息
申请号: 200610103589.3 申请日: 2006-07-25
公开(公告)号: CN1923342A 公开(公告)日: 2007-03-07
发明(设计)人: 李瑢灿;金滢克;李相根 申请(专利权)人: 清洁系统韩国股份有限公司
主分类号: B01D53/72 分类号: B01D53/72;B01D53/74;F23G7/06
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 王艳江;杨生平
地址: 韩国京畿道城南市盆唐区野塔洞1*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明公开一种用于对半导体制造工艺中产生的半导体废气进行处理的净气器,该净气器以高温火焰燃烧废气、过滤及收集废气燃烧后所产生的微粒、将滤掉了微粒的废气排出到大气中。该半导体废气处理净气器包括:供应部分,用于供应半导体废气、燃料和氧气;燃烧器,连接于供应部分而通过火焰来燃烧半导体废气;燃烧室,结合于燃烧器而使半导体废气燃烧时所产生的微粒掉落;湿塔,安装在燃烧室的侧部而使从燃烧室传送的微粒在用水吸附后掉落;以及储水罐,连接于燃烧室和湿塔,从而收集从燃烧室和湿塔掉落的微粒。本发明增加了废气燃烧效率、使得微粒不会沉积在燃烧室的内壁上且使得易于对燃烧室进行维护和修复。
搜索关键词: 用于 对半 导体 废气 进行 处理 净气器
【主权项】:
1.一种用于处理半导体废气的净气器,其包括:供应部分,用于供应半导体废气、燃料和氧气;燃烧器,该燃烧器连接于所述供应部分而通过火焰来燃烧半导体废气;燃烧室,该燃烧室结合于所述燃烧器而使得在半导体废气燃烧时所产生的微粒掉落;湿塔,该湿塔安装在所述燃烧室的侧部而使得从所述燃烧室传送的微粒在用水吸附后掉落;以及储水罐,该储水罐连接于所述燃烧室和湿塔而用以收集从所述燃烧室和湿塔掉落的微粒。
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