[发明专利]便于光掩模制造中的工艺集成的组合工具和方法

摘要

本发明公开了一种适于光掩模制造中的工艺集成的方法和设备。在一个实施例中，适于光掩模制造中的工艺集成的组合工具包括真空转移室，该真空转移室具有耦合到其上的至少一个硬掩模沉积室和至少一个配置来刻蚀铬的等离子体室。在另一个实施例中，用于光掩模制造中的工艺集成的方法包括：在第一处理室中在衬底上沉积硬掩模；在衬底上沉积光抗蚀剂层；图案化光抗蚀剂层；在第二处理室中通过形成在图案化光抗蚀剂层中的孔隙刻蚀硬掩模；以及在第三处理室中通过形成在硬掩模中的孔隙刻蚀铬层。

主权项

1.一种制造光掩模的方法，包括：将处于处理系统中的衬底转移到第一处理室，所述处理系统具有耦合到具有真空环境的转移室的所述第一处理室、第二处理室和第三处理室，所述衬底包括具有铬层和石英层的膜叠层、硬掩膜层和形成在所述铬层上的图案化光抗蚀剂层；在所述第二处理室中，使用所述图案化光抗蚀剂层作为刻蚀掩模刻蚀硬掩模层；在所述第三处理室中，使用所述图案化硬掩模层作为刻蚀掩模刻蚀所述铬层；以及在所述第三处理室中就地去除所述硬掩模层。