[发明专利]低温离子镀制备金属基润滑薄膜的方法

摘要

本发明公开了一种低温离子镀制备金属基润滑薄膜的方法。该方法使用离子镀技术，采用液氮冷却的试样夹具夹持待镀膜基体，在镀膜过程中向试样夹具通入液氮，使基体获得低温，在低温基体表面沉积金属基润滑薄膜。该薄膜制备方法优点是在薄膜沉积过程中使基体获得低温条件，同时不影响直流偏压、靶材电流、电压和沉积气氛分压等主要镀膜参数的选择，采用该方法制备的金属基润滑薄膜与基体结合力较高，润滑性能良好，是一种具有应用潜力的金属基润滑薄膜制备方法。

主权项

1.一种低温离子镀制备金属基润滑薄膜的方法，其特征在于该方法依次包括如下步骤：A、制备与安装金属靶材使用金属材料，加工成Φ60mm～80mm，高40mm～50mm的圆柱形状靶，将靶材安装在离子镀膜设备的镀膜室侧壁上的预留靶口内；B、安装待镀膜基体将待镀膜基体清洗干净并烘干后装入镀膜室内的试样夹具上，使待镀膜基体与靶材之间的距离保持在80mm～200mm，并且使基体表面法线与靶材表面法线间的夹角在-30°～+30°之间，同时在待镀膜基体与试样夹具工装的贴合面安装测温元件，以检测基体沉积温度；C、离子轰击处理将镀膜室抽真空至6.0×10-3Pa～6.0×10-4Pa，充入高纯氩气1.0Pa～5.0Pa，离子轰击电压-50V～-3000V；D、低温获得过程通过进液管路向试样夹具内通入液氮，从而使待镀膜基体温度降低到-20℃～-178℃，待镀膜基体温度由测温元件直接监测；E、镀膜镀膜Ar气压10-2Pa～100Pa，金属靶材电压10V～40V，电流40A-100A，工作偏压0V～-3000V，沉积时间10s～30mim；镀膜结束后自然升温至室温。