[发明专利]一种零留膜的压印模板及压印光刻图形转移方法

摘要

本发明公开了一种零留膜的压印模板及压印光刻图形转移方法，该方法包括压印模板制作、压印、曝光、脱模、显影等工艺步骤，得到基材上零压印底膜的光刻胶转移图形。本发明通过蒸镀、溅射、CVD、电镀等工艺在透明压印模板上图形的突出部位镀覆一层不透紫外光材料薄层，该不透光材料薄层在压印光刻工艺中位于压印底膜的上方，对底膜起到曝光掩模的作用，使底膜部分不发生交联固化。这样，在压印光刻脱模后底膜通过简单的显影工艺即可以得到没有底膜的光刻胶图形。采用该工艺可以避免常规压印光刻工艺中耗时的RIE去除底膜工艺步骤，使整个压印光刻工艺效率大大提高，同时降低了成本。本发明适用于图形特征尺寸为1mm以下压印光刻图形转移工艺。

主权项

1.一种零留膜的压印模板及压印光刻图形转移方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：1)模板制作：通过蒸镀、溅射、CVD、电镀工艺在压印模板材料上镀覆一层不透紫外光材料薄层，然后采用光刻、湿法刻蚀或光刻、干法刻蚀制作压印模板，该压印模板上图形突出部位保留有不透紫外光材料薄层；或者先制作透明压印模板，然后通过蒸镀、溅射、CVD、电镀或其它工艺方法在模板上图形突出部位镀覆不透紫外光材料薄层；2)压印光刻：用步骤1)所制作的模板进行压印、曝光；3)脱模显影：压印、曝光后脱模，然后采用显影液显影的方法去除压印底膜，即可得到没有压印底膜的光刻胶图形。