[发明专利]半导体制造装置、半导体制造方法及半导体装置有效
申请号: | 200610105554.3 | 申请日: | 2006-07-18 |
公开(公告)号: | CN1921071A | 公开(公告)日: | 2007-02-28 |
发明(设计)人: | 清水和宏;秋山肇;保田直纪 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | H01L21/288 | 分类号: | H01L21/288;H01L21/3205;H01L21/31;H01L21/768;H01L21/66;H01L21/00;H01L23/48;H01L23/525;H01L23/60;B41J2/135;B41J2/04 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 浦柏明;刘宗杰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 半导体制造装置中的描绘图案印刷部具有分别射出导电性溶剂、绝缘性溶剂和界面处理液的印刷头,印刷头根据来自晶片测试部的描绘图案的信息、来自存储部的与该晶片有关的信息和来自芯片坐标识别部的坐标信息,可以对该晶片印刷所要的电路描绘图案,半导体制造方法使用半导体制造装置,并利用印刷处理形成所要的电路,制造出半导体装置,在半导体装置上形成焊盘电极等,以便可以利用电路描绘图案的印刷对该半导体装置进行修整处理。 | ||
搜索关键词: | 半导体 制造 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种半导体制造装置,其特征在于,具备:晶片测试部,检测出检查对象的晶片中的各芯片的特性,根据该检测出的数据决定用来对各芯片进行修整的描绘图案;存储部,存储与检查对象的晶片有关的信息;以及描绘图案印刷部,根据来自上述晶片测试部的描绘图案的信息和来自上述存储部的与该晶片有关的信息,利用印刷动作对该晶片的各芯片形成所要的描绘图案,上述描绘图案印刷部的结构具有:印刷头,至少分别射出导电性溶剂、绝缘性溶剂和界面处理液;芯片坐标识别部,通过对该晶片的图像识别来取得各芯片的坐标信息;以及控制部,根据来自上述晶片测试部的描绘图案的信息、来自上述存储部的与该晶片有关的信息和来自芯片坐标识别部的坐标信息,控制上述印刷头对该晶片的描绘动作。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造