[发明专利]用于移除浸润式微影溶液的组合物及制造半导体器件的方法无效
| 申请号： | 200610105645.7 | 申请日： | 2006-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN1959542A | 公开（公告）日： | 2007-05-09 |
| 发明（设计）人： | 郑载昌;李晟求 | 申请（专利权）人： | 海力士半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;G03F7/20;G03F7/16;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 封新琴;巫肖南 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明披露一种用于移除浸润式微影溶液的组合物。该组合物包括有机溶剂与酸性化合物。另外还揭示了一种用来制造半导体器件的方法，其包括浸润式微影法。当利用浸润式微影法来形成光阻剂图案时，利用浸润式微影法曝光器，在形成于底层上的阻剂薄膜上方进行曝光过程。然后，将该组合物滴在晶片上，以移除在该光阻剂薄膜上的残余浸润式微影溶液，由此改良水痕缺陷现象。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 浸润 式微 溶液 组合 制造 半导体器件 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于移除浸润式微影溶液的组合物，该组合物包括：沸点低于150℃的有机溶剂；以及酸性化合物，其存在的量为0.005至10重量份，基于100重量份的有机溶剂。
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