[发明专利]光记录介质无效
申请号: | 200610105786.9 | 申请日: | 2006-07-25 |
公开(公告)号: | CN1905032A | 公开(公告)日: | 2007-01-31 |
发明(设计)人: | 新开浩 | 申请(专利权)人: | TDK股份有限公司 |
主分类号: | G11B7/24 | 分类号: | G11B7/24;G11B7/243 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 雷志刚 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种光记录介质(10)。该光记录介质(10)具有基板(12)、设置在该基板(12)上的光入射侧的第一信息层(14)、作为设置在比其更靠近光入射侧的半透过信息层的第二信息层(16)而成,上述第二信息层(16)包含记录膜(18)、以及相邻于该记录膜(18)的光入射侧而设置的界面层(20)而构成,该记录膜(18)由能够通过将物镜的数值孔径设为NA、激光束的波长设为λ时λ/NA≤650nm的光学系统来改写的相变材料来形成,而且界面层(20)由ZnS、SiO2以及Cr2O3来构成,另外,记录膜(18)将Sb作为主成分,而将Ge作为副成分。 | ||
搜索关键词: | 记录 介质 | ||
【主权项】:
1、一种光记录介质,具有基板、设置在该基板上的激光束的光入射侧的第一信息层、设置在比该第一信息层更靠近光入射侧的至少一层的半透过信息层而成,上述半透过信息层包含记录膜、以及相邻于该记录膜的光入射侧而设置的界面层而构成,同时,上述记录膜由相变材料形成,该相变材料能够通过将物镜的数值孔径设为NA、将激光束的波长设为λ时λ/NA≤650nm的光学系统来改写,其特征在于,上述记录膜将Sb作为主成分,且作为副成分而至少含有Ge,并且上述界面层由ZnS、SiO2以及Cr2O3来形成。
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