[发明专利]曝光装置及方法有效
| 申请号： | 200610105988.3 | 申请日： | 2006-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN1900828A | 公开（公告）日： | 2007-01-24 |
| 发明（设计）人： | 高桥和弘;三上晃司;河野道生 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 许海兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种分辨力良好的曝光方法和装置。曝光装置使用来自光源的光和光学系统将标线片图形曝光到被曝光体；其特征在于：具有测量部分和控制部分；该测量部分对通过上述光学系统的上述光的偏振信息进行测量；该控制部分根据上述测量部分的测量结果对上述光源和上述光学系统中的至少一个的曝光参数进行控制；上述偏振光信息包含与光轴平行的相互直交的二方向的偏振光强度、偏振光强度比、偏振度、及相位差中至少一个。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，使用来自光源的光和光学系统将标线片图形曝光到被曝光体上；其特征在于：具有测量部分和控制部分；该测量部分对通过上述光学系统的上述光的偏振信息进行测量；该控制部分根据上述测量部分的测量结果对上述光源和上述光学系统中的至少一个的曝光参数进行控制；上述偏振光信息包含与光轴平行的相互直交的二方向的偏振光强度、偏振光强度比、偏振度、及相位差中的至少一个。
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