[发明专利]制造光学膜的方法无效
| 申请号： | 200610106040.X | 申请日： | 2006-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN1885071A | 公开（公告）日： | 2006-12-27 |
| 发明（设计）人： | 山原基裕;中村真理子 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02F1/13363 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 郭广迅;段晓玲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种制造光学膜的方法，包括以下步骤：使用产生双折射的聚合物涂布基于在以下第1至5步中计算的取向性能选择的取向层2。第一步：测量具有不同取向性能的多种取向层1的取向性能的步骤，第二步：通过使用产生双折射的聚合物涂布已在第一步中测量其取向性能的取向层1制造双折射层的步骤，第三步：测量在所述第二步中获得的双折射层的取向性能的步骤，第四步：计算在第一步中测量的取向层1的取向性能和在第三步中测量的双折射层的取向性能之间相互关系的步骤，和第五步：从所述第四步计算的相互关系，计算取向层1的取向性能的步骤，取向层1用于获得具有某一取向性能的双折射层。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 光学 方法 | ||
【主权项】：
1、一种制造光学膜的方法，包括以下步骤：使用产生双折射的聚合物涂布基于在以下第1至5步中计算的取向性能选择的取向层2，第一步测量具有不同取向性能的多种取向层1的取向性能的步骤，第二步通过使用产生双折射的聚合物涂布已在第一步中测量其取向性能的取向层1而制造双折射层的步骤，第三步测量在所述第二步中获得的双折射层的取向性能的步骤，第四步计算在第一步中测量的取向层1的取向性能和在第三步中测量的双折射层的取向性能之间相互关系的步骤，和第五步从所述第四步计算的相互关系，计算取向层1的取向性能的步骤，取向层1用于获得具有某一取向性能的双折射层。
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