[发明专利]离轴投影光学系统及使用该系统的超紫外线光刻装置有效

专利信息
申请号: 200610106080.4 申请日: 2006-06-19
公开(公告)号: CN1881091A 公开(公告)日: 2006-12-20
发明(设计)人: 张丞爀;宋利宪;朴永洙;金锡必;金勋 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H01L21/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 马高平;杨梧
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 提供了一种离轴投影光学系统,其包括离轴设置的第一和第二反射镜。第一反射镜弯曲部分的切向和径向半径分别为R1t和R1s。第二反射镜弯曲部分的切向和径向半径分别为R2t和R2s。从物点到第一反射镜10的光束入射角为i1,从第一反射镜10反射到第二反射镜30的光束入射角为i2。数值R1t、R1s、R2t、R2s、i1和i2可以满足下面的等式:R1tcosi1=R2tcosi2,R1s=R1tcos2i1,R2s=R2tcos2i2
搜索关键词: 投影 光学系统 使用 系统 紫外线 光刻 装置
【主权项】:
1、一种离轴投影光学系统,包括:离轴设置的第一和第二反射镜,其中如果第一反射镜弯曲部分的切向和径向半径分别为R1t和R1s;第二反射镜弯曲部分的切向和径向半径分别为R2t和R2s;从物点到第一反射镜的光束入射角为i1;从第一反射镜反射到第二反射镜的光束入射角为i2,则满足下面的等式:R1t cosi1=R2t cosi2 R1s=R1t cos2i1 R2s=R2t cos2i2
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