[发明专利]曝光装置有效
| 申请号： | 200610106130.9 | 申请日： | 2006-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN1900835A | 公开（公告）日： | 2007-01-24 |
| 发明（设计）人： | 中村光一;山内孝一;武田慎一;森本成则 | 申请（专利权）人： | 夏普株式会社 |
| 主分类号： | G03G15/04 | 分类号： | G03G15/04 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 温大鹏 |
| 地址： | 日本大阪*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种曝光装置，包括透光构件和保护盖。透光构件允许向着扫描目标定向的光束穿过其中。保护盖被安装为在关闭位置和打开位置之间可绕枢轴转动。保护盖具有第一构件和第二构件。在关闭位置，第一构件遮蔽透光构件，并且在打开位置不遮蔽透光构件从而允许光束穿过透光构件。在关闭位置中，第二构件定位在第一构件上方，至少延伸超过第一构件的包括自由端部在内的周边端部。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，包括：允许向着扫描目标定向的光束穿过其中的透光构件；和保护盖，被安装为在关闭位置和打开位置之间可绕枢轴转动，所述保护盖包括：第一构件，用于在所述关闭位置遮蔽所述透光构件，并且在所述打开位置不遮蔽所述透光构件从而允许光束穿过所述透光构件；和第二构件，在所述关闭位置，所述第二构件定位在所述第一构件上方以至少延伸超过所述第一构件的包括自由端部在内的周边端部。
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