[发明专利]基板处理装置及处理方法有效

专利信息
申请号: 200610107462.9 申请日: 2006-07-25
公开(公告)号: CN1903683A 公开(公告)日: 2007-01-31
发明(设计)人: 广濑治道;末吉秀树 申请(专利权)人: 芝浦机械电子株式会社
主分类号: B65G49/06 分类号: B65G49/06;G02F1/1333
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 陈英俊
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供一种基板处理装置,不仅减小设置空间,而且能够在相同场所进行基板的供给和送出。该基板处理装置具有:装置主体(1);输送辊,设置在装置主体上,将基板以规定角度倾斜地输送;处理部(3),对由输送辊输送的基板进行处理;上部输送部(4),设置于装置主体的上部,将基板在水平状态下向与倾斜输送的输送方向相反的方向输送;倾斜交接单元(61),设置在装置主体的至少一端,接受由上部输送部水平地输送的基板,使该基板下降的同时倾斜至规定角度,并交接给输送辊。
搜索关键词: 处理 装置 方法
【主权项】:
1、一种基板处理装置,一边将基板以规定角度倾斜地输送,一边进行处理,其特征在于,包括:装置主体;倾斜输送机构,设置在该装置主体上,将上述基板以规定角度倾斜地输送;处理机构,对由该倾斜输送机构输送的基板进行处理;上部输送机构,设置于上述装置主体的上部,当供给上述基板时,以水平状态输送该基板;第一倾斜交接机构,设置在上述装置主体的一端,接受由上述上部输送机构水平地输送来的上述基板,使该基板下降的同时倾斜至规定角度,并交接给上述倾斜输送机构。
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