[发明专利]磁记录介质及磁记录装置

摘要

根据本发明，提供了一种磁记录介质10，其包括：非磁性的基底1；形成于该非磁性基底1上的非磁性衬层3；形成于该非磁性衬层3上的第一记录层4，第一记录层4具有垂直磁各向异性，其各向异性磁场为H_k1，厚度为t₁，且饱和磁化强度为Ms₁；及形成于该第一记录层4之上或之下的第二记录层5，该第二记录层5具有垂直磁各向异性，其各向异性磁场为H_k2，厚度为t₂，且饱和磁化强度为Ms₂；其中，该各向异性磁场H_k1、H_k2，厚度t₁、t₂，及饱和磁化强度Ms₁、Ms₂分别满足条件H_k2＜H_k1及(t₂·Ms₂)/(t₁·Ms₁)。

主权项

1.一种磁记录介质，包括：基底构件；形成于该基底构件上的衬层；形成于该衬层上的第一记录层，该第一记录层具有各向异性磁场为Hk1 的垂直磁各向异性、t1的厚度以及Ms1的饱和磁化强度；及形成于该第一记录层之上或之下的第二记录层，该第二记录层与该第一记录层接触，并且该第二记录层具有各向异性磁场为Hk2的垂直磁各向异性、t2的厚度以及Ms2的饱和磁化强度；其中所述的各向异性磁场Hk1及Hk2、所述厚度t1及t2、以及所述的饱和磁化强度Ms1及Ms2分别满足Hk2＜Hk1及(t2·Ms2)/(t1·Ms1)＜1。