[发明专利]带遮光膜基板、彩色滤光片基板及它们的制造方法以及具备带遮光膜基板的显示装置无效
申请号: | 200610107794.7 | 申请日: | 2006-07-21 |
公开(公告)号: | CN1912738A | 公开(公告)日: | 2007-02-14 |
发明(设计)人: | 吉田卓司;木村初美;石贺展昭;山部贵人;荒木利夫 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | G03F1/08 | 分类号: | G03F1/08;G02B5/20;G03F7/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 孙秀武;吴娟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供即使在使用具有氧化铬膜的遮光膜时也具有良好蚀刻剖面的带遮光膜基板、彩色滤光片基板及显示装置以及它们的制造方法。本发明一实施方式涉及的带遮光膜基板是具有在基板1上形成的遮光膜10图案的带遮光膜基板,遮光膜10具备含有铬氧化物的第1膜2和含有铬的设置于第1膜2上的第2膜3,遮光膜10的剖面形状具有正锥形。遮光膜10的蚀刻可以使用在硝酸铈铵中至少含有硝酸2.5摩尔/升以上浓度的药液来进行。 | ||
搜索关键词: | 遮光 膜基板 彩色 滤光 片基板 它们 制造 方法 以及 具备 显示装置 | ||
【主权项】:
1.带遮光膜基板,其是具有在基板上形成的遮光膜图案的带遮光膜基板,所述遮光膜具备含有铬氧化物的第1膜、和设置于所述第1膜上的具有铬的第2膜,所述遮光膜图案的剖面形状具有正锥形。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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