[发明专利]基板升降装置和基板处理装置有效

专利信息
申请号: 200610107866.8 申请日: 2006-07-26
公开(公告)号: CN1905152A 公开(公告)日: 2007-01-31
发明(设计)人: 伊藤毅 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/687 分类号: H01L21/687
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种即使在真空处理装置中,也不产生升降销的一端接触,可稳定地使基板升降的基板升降装置和基板处理装置。提升板(32)的围绕筒体(34)为中空状,在天井部(34a)中具有开口,在该开口中插入升降销基端部(9)的下部。在提升板(32)的上面(32a)中,配设球轴承(35),在与提升板(32)相对的围绕筒体(34)的天井部内面(34b)中,配设球轴承(36)。球轴承(35)接触设置在升降销基端部(9)上的法兰(9a)的下面,球轴承(36)接触法兰(9a)的上面,由此以夹入升降销基端部(9)的法兰(9a)的方式支撑升降销(8)。
搜索关键词: 升降 装置 处理
【主权项】:
1.一种基板升降装置,配设在基板处理装置的基板载置台上,使基板升降,其特征在于,具有:相对于所述基板载置台的基板载置面能够突出和没入地设置,与基板接触,并使其升降的升降销;使所述升降销升降变位的驱动部;和将来自所述驱动部的驱动力传递到所述升降销的多个球体。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社,未经东京毅力科创株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610107866.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top