[发明专利]电介质膜的制造方法以及电容器有效
| 申请号： | 200610107900.1 | 申请日： | 2006-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN1905096A | 公开（公告）日： | 2007-01-31 |
| 发明（设计）人： | 内田清志;堀野贤治;齐田仁 | 申请（专利权）人： | TDK株式会社 |
| 主分类号： | H01G4/008 | 分类号： | H01G4/008;H01G4/12;H01B3/12;C04B35/462 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明为一种电容器，包括电介质膜和夹着该电介质膜相向设置的第一电极以及第二电极，电介质膜具有超过根据格子常数算出的理论密度的72％的密度。第一电极及所述第二电极的至少一方，含有选自Cu、Ni、Al、不锈钢以及铬镍铁合金的至少一种金属。 | ||
| 搜索关键词： | 电介质 制造 方法 以及 电容器 | ||
【主权项】：
1.一种电容器，其特征在于，包括：电介质膜，和夹着该电介质膜相向设置的第一电极以及第二电极，所述电介质膜，具有超过根据格子常数算出的理论密度的72％的密度。所述第一电极及所述第二电极的至少一方，含有选自Cu、Ni、Al、不锈钢以及铬镍铁合金的至少一种金属。
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