[发明专利]显影处理装置以及显影处理方法有效
| 申请号： | 200610109163.9 | 申请日： | 2006-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN1908819A | 公开（公告）日： | 2007-02-07 |
| 发明（设计）人： | 北野高广;饱本正巳;锦户修一;熊谷大 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张天安 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明中，处理容器内排列设置有与处理容器的外部之间进行基板的传递的基板传递部和进行基板的显影的显影处理部，并设置有在基板传递部与显影处理部之间以从两侧对基板的外侧面进行夹持的状态进行基板的输送的输送机构。在基板传递部与所述显影处理部之间且基板输送路径的上方，设置有向基板供给显影液的显影液供给喷嘴、以及向基板吹喷气体的气体吹出喷嘴，显影处理部中设置有向基板供给清洗液的清洗液供给喷嘴。根据本发明，是在对基板的外侧面进行夹持的状态下进行基板的输送，因而污染不会扩散，可抑制处理容器内产生微粒。 | ||
| 搜索关键词： | 显影 处理 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基板的显影处理装置，其特征是，处理容器内排列设置有与处理容器的外部之间进行基板的传递的基板传递部和进行基板的显影的显影处理部；在所述处理容器内设置有输送机构，在所述基板传递部与所述显影处理部之间以从两侧对基板的外侧面进行夹持的状态进行基板的输送；在所述基板传递部与所述显影处理部之间且所述输送机构输送基板的输送路径的上方，设置有向基板供给显影液的显影液供给喷嘴和向基板吹喷气体的气体吹出喷嘴；在所述显影处理部中设置有向基板供给清洗液的清洗液供给喷嘴。
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