[发明专利]摄影测量中特征采样方法无效
申请号: | 200610109243.4 | 申请日: | 2006-08-03 |
公开(公告)号: | CN1888820A | 公开(公告)日: | 2007-01-03 |
发明(设计)人: | 方新 | 申请(专利权)人: | 北京联合大学 |
主分类号: | G01C11/00 | 分类号: | G01C11/00;G01B11/00;G01B11/24;G01B21/00;G01B21/20 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 100101北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种摄影测量中特征采样方法,其包括以下步骤:对需要三维模型重构的零件进行三维实体造型特征分析;根据零件的基本特征情况确定采样的定位面;根据零件的基本特征情况确定零件定位面的运动路径;用二维工业CT技术对零件定位面及运动路径所在截面进行断层测量,从而得到二维截面轮廓线和二维运动路径;根据截面轮廓线及路径,实现对零件三维模型的重构。该方法可以获得较高的采样精度、不必采集大量的数据即可得到零件基本特征信息,减少了采样数据,大大提高了处理速度。 | ||
搜索关键词: | 摄影 测量 特征 采样 方法 | ||
【主权项】:
1、一种摄影测量中特征采样方法,其包括以下步骤:(1)对需要三维模型重构的零件进行三维实体造型特征分析;(2)根据零件的基本特征情况确定采样的定位面;(3)根据零件的基本特征情况确定零件定位面的运动路径;(4)用二维工业CT技术对零件定位面及运动路径所在截面进行断层测量,从而得到二维截面轮廓线及二维运动路径;(5)根据所获得的截面轮廓线及运动路径,实现对零件三维模型的重构。
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