[发明专利]电容器及其制造方法无效
| 申请号： | 200610109925.5 | 申请日： | 2006-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN1959964A | 公开（公告）日： | 2007-05-09 |
| 发明（设计）人： | 山西良树;原田宗生;北野高弘;川口达三;广田良浩;山田欣司;篠田智隆;奥村胜弥;河野秀一 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社;奥克泰克有限公司;揖斐电株式会社 |
| 主分类号： | H01L23/32 | 分类号： | H01L23/32;H01L23/488;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王怡 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种高质量的电容器及其制造方法。电容器(10)包括：形成在氧化膜(12)上的下部电极(13a)；形成在下部电极(13a)上的电介质层(14)；间隔电介质层(14)而与下部电极(13a)相对形成的上部电极(15a)；以及覆盖上部电极(15a)并覆盖上部电极(15a)的开口部(62v)和电介质层(14)的开口部(61v)的上部电极(15b)。通过在电介质层(14)上形成上部电极(15a)，可将该上部电极作为掩模来对电介质层(14)进行图案化，从而抑制杂质向电介质层(14)内扩散，另外，可以通过上部电极(15b)来防止电介质层(14)暴露在蚀刻液、显影液等中的情况，从而能够提供具有高质量的电介质层(14)的电容器(10)。 | ||
| 搜索关键词： | 电容器 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种电容器，其特征在于，包括：基板；形成在所述基板的一个主面上的下部电极；形成在所述下部电极上、并具有开口部的电介质层；以及形成在所述电介质层上并与所述下部电极相对的上部电极；其中，所述上部电极包括：形成在所述电介质层上、并具有与所述电介质层的所述开口部对应的开口部的第一层；和形成在该第一层、该第一层的该开口部以及所述电介质层的所述开口部上的第二层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社;奥克泰克有限公司;揖斐电株式会社，未经东京毅力科创株式会社;奥克泰克有限公司;揖斐电株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200610109925.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
