[发明专利]基板的两面形状测量装置和基板的两面形状测量方法有效
| 申请号： | 200610110712.4 | 申请日： | 2006-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN1912542A | 公开（公告）日： | 2007-02-14 |
| 发明（设计）人： | 秋山重隆;田中辰一;秋山贵信;上田胜宣;喜多康之 | 申请（专利权）人： | 东芝机械株式会社 |
| 主分类号： | G01B21/20 | 分类号： | G01B21/20 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 陈英俊 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明是基板的两面形状测量装置，测量装置主体具有：在金属制底座上的一个端部大致配置成垂直状态的立式平台的基准平面；与其大致平行地保持被测基板的保持机构；以及位移计扫描立柱。上述位移计扫描立柱具有安装第一(第二)位移计的第一空气活塞、以及安装第三位移计的第二空气活塞，沿一对V形沟槽在水平轴方向上移动。并且，第一(第二)空气活塞在垂直轴方向上移动。利用上述第一(第二)位移计的扫描来测量被测基板的板面的一面的表面形状，同时利用上述第三位移计的扫描来测量上述板面的另一面的表面形状。 | ||
| 搜索关键词： | 两面 形状 测量 装置 测量方法 | ||
【主权项】：
1.一种基板的两面形状测量装置，其特征在于，具有：平台，配置成平台的基准平面成为大致垂直状态；保持机构，保持被测基板使被测基板的板面与上述基准平面大致平行；第一位移计和第二位移计，配置在上述平台的基准平面和由上述保持机构保持的上述被测基板的板面的一面之间，能够在垂直面内扫描，在上述扫描的同时，该第一位移计测量与上述平台的基准平面的距离，该第二位移计测量与上述被测基板的板面的一面的距离；第三位移计，配置在与上述板面的一面相对置的另一面侧，能够在垂直面内扫描，在上述扫描的同时测量与上述板面的另一面的距离；以及运算机构，根据上述各位移计的测量结果运算被测基板的表面形状。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东芝机械株式会社，未经东芝机械株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200610110712.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：光盘驱动器
- 下一篇：仲裁对共享资源的访问的系统、方法和计算机程序产品
