[发明专利]双光路全反射X荧光分析仪无效
申请号: | 200610111339.4 | 申请日: | 2006-08-23 |
公开(公告)号: | CN101131370A | 公开(公告)日: | 2008-02-27 |
发明(设计)人: | 田宇纮 | 申请(专利权)人: | 北京普析通用仪器有限责任公司 |
主分类号: | G01N23/223 | 分类号: | G01N23/223 |
代理公司: | 北京市合德专利事务所 | 代理人: | 李本源 |
地址: | 100081北京市海*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种双光路全反射X荧光分析仪,包括至少两只不同的激发源(X光管)、上反射体、下反射体、载样片、样品压环,所述的两只不同的激发源共用同一电源并可自动切换。两只激发源与载样片和样品压环之间,各设有上反射体和下反射体,所述的上反射体和下反射体之间有很小间距,X射线以非常小的掠射角射入该间隙,并在上反射体和/或下反射体的反射面上产生全反射,最终到达被测样品处。本发明所述双光路全反射X荧光分析仪的优点在于:可以使用于测试不同的元素,使用中不需要多次更换激发源,多次切断电源、调整光路等,可以明显提高测试效率。并使得在分析灵敏度上由于使用不同激发源而得到互补提高,可操作性和方便性明显,能更好地满足使用者要求。 | ||
搜索关键词: | 双光路 全反射 荧光 分析 | ||
【主权项】:
1.一种双光路全反射X荧光分析仪,其特征在于包括至少两只不同的X光管、上反射体、下反射体、载样片、样品压环,所述的两只不同的激发源共用同一电源并可自动切换,两只激发源与载样片和样品压环之间,各设有上反射体和下反射体,所述的上反射体和下反射体之间有很小间距。当本分析仪处于工作状态时。
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