[发明专利]电感耦合线圈及电感耦合等离子体装置有效
| 申请号： | 200610112570.5 | 申请日： | 2006-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN101131893A | 公开（公告）日： | 2008-02-27 |
| 发明（设计）人： | 宋巧丽;南建辉 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | H01F17/00 | 分类号： | H01F17/00;H01L21/70 |
| 代理公司： | 北京凯特来知识产权代理有限公司 | 代理人： | 赵镇勇;王连军 |
| 地址： | 100016北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种电感耦合线圈及应用该电感耦合线圈的电感耦合等离子体装置，由两个或多个结构基本相同的独立分支嵌套构成，多个独立分支同轴线，且相对轴线对称布置，并联连接，每个独立分支包括立体部分和平面部分，立体部分沿轴线方向延伸；平面部分沿垂直于轴线的平面向四周延伸；立体部分的底部端点与平面部分的内部端点平滑连接。电感耦合线圈设于电感耦合等离子体装置的反应室上部，并与射频电源连接。可以使工艺气体在反应腔室的晶片上方分布均匀，使晶片表面发生的化学反应速度差异较小，刻蚀速率均匀，提高刻蚀晶片的质量。主要用于半导体晶片加工设备，也适用于其它的设备。 | ||
| 搜索关键词： | 电感 耦合 线圈 等离子体 装置 | ||
【主权项】：
1.一种电感耦合线圈，其特征在于，由多个结构相同的独立分支嵌套构成，所述多个独立分支同轴线，且相对轴线对称布置。
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