[发明专利]一种制作氮化镓基激光器管芯的方法无效
申请号: | 200610113238.0 | 申请日: | 2006-09-20 |
公开(公告)号: | CN101150243A | 公开(公告)日: | 2008-03-26 |
发明(设计)人: | 张书明;种明;朱建军;杨辉 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01S5/00 | 分类号: | H01S5/00;H01S5/22;H01S5/343 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 周国城 |
地址: | 100083北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种制作氮化镓基激光器管芯的方法,该方法包括:A.在制作的激光器外延结构的表面蒸镀P型欧姆接触电极;B.利用介质膜或光刻胶作掩膜在蒸镀了P型欧姆接触电极的激光器外延结构上刻蚀出激光器的N型接触区域;C.利用光刻胶作掩膜刻蚀出激光器的脊型结构,并保留剩余的光刻胶掩膜;D.在刻蚀出脊型结构的激光器上蒸镀或沉积介质膜隔离层;E.采用剥离的方法露出脊型表面的P型欧姆接触电极;F.采用光刻和蒸镀金属电极的方法形成激光器的P型加厚电极和N型欧姆接触电极。利用本发明,使激光器工作电流的注入均匀,进而易于制作脊型宽度窄的激光器,实现了激光器的基模工作。 | ||
搜索关键词: | 一种 制作 氮化 激光器 管芯 方法 | ||
【主权项】:
1.一种制作氮化镓GaN基激光器管芯的方法,其特征在于,该方法包括:A、在制作的激光器外延结构的表面蒸镀P型欧姆接触电极;B、利用介质膜或光刻胶作掩膜在蒸镀了P型欧姆接触电极的激光器外延结构上刻蚀出激光器的N型接触区域;C、利用光刻胶作掩膜刻蚀出激光器的脊型结构,并保留剩余的光刻胶掩膜;D、在刻蚀出脊型结构的激光器上蒸镀或沉积介质膜隔离层;E、采用剥离的方法露出脊型表面的P型欧姆接触电极;F、采用光刻和蒸镀金属电极的方法形成激光器的P型加厚电极和N型欧姆接触电极。
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