[发明专利]磁介质中的软磁衬层和基于软磁合金的溅射靶无效
| 申请号： | 200610115011.X | 申请日： | 2006-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN101064120A | 公开（公告）日： | 2007-10-31 |
| 发明（设计）人： | 迈克尔·吉恩·拉辛;阿尼尔班·达斯;史蒂文·罗杰·肯尼迪 | 申请（专利权）人： | 黑罗伊斯公司 |
| 主分类号： | G11B5/66 | 分类号： | G11B5/66;G11B5/667;G11B5/851;G11B5/127 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 梁晓广;陆锦华 |
| 地址： | 美国亚*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了一种磁记录介质，其包括基片、沉积在基片上的衬层和沉积在衬层上的磁数据记录层，该衬层由包含至少一种软铁磁元素和至少一种阻蚀剂元素的软磁合金组成，该阻蚀剂元素选自由铬(Cr)、钨(W)、钼(Mo)、碳(C)、铜(Cu)、镍(Ni)、锰(Mn)、氮(N)、钛(Ti)、铌(Nb)、硅(Si)、钽(Ta)和铝(Al)组成的组。还提供了一种由软磁合金组成的溅射靶，并且该软磁合金也用于磁记录头上的软磁层。 | ||
| 搜索关键词： | 介质 中的 软磁衬层 基于 合金 溅射 | ||
【主权项】：
1.一种磁记录介质，其包括：基片；沉积在基片上的衬层，该衬层由包含至少一种软铁磁元素和至少一种阻蚀剂元素的软磁合金组成，所述阻蚀剂元素选自由铬(Cr)、钨(W)、钼(Mo)、碳(C)、铜(Cu)、镍(Ni)、锰(Mn)、氮(N)、钛(Ti)、铌(Nb)、硅(Si)、钽(Ta)和铝(Al)组成的组；和沉积在所述衬层上的磁数据记录层。
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