[发明专利]氮化物半导体元件无效
申请号: | 200610115099.5 | 申请日: | 2006-08-24 |
公开(公告)号: | CN1921147A | 公开(公告)日: | 2007-02-28 |
发明(设计)人: | 斋藤渉;小野村正明 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | H01L29/772 | 分类号: | H01L29/772;H01L29/12 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王以平 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种氮化物半导体元件,其特征在于,具备:层叠体,具有由氮化物半导体构成的第1半导体层,和设在所述第1半导体层之上、由带隙比所述第1半导体层大的未掺杂或n型氮化物半导体构成的第2半导体层;控制电极,设在所述层叠体的主面上的第1区域内;第1以及第2主电极,分别设在所述层叠体的主面上的与所述第1区域的两端相邻的第2以及第3区域内;以及第3主电极,在所述层叠体的主面上夹着所述第2主电极而设在与所述控制电极相反的一侧。 | ||
搜索关键词: | 氮化物 半导体 元件 | ||
【主权项】:
1.一种氮化物半导体元件,其特征在于,具备:层叠体,具有由氮化物半导体构成的第1半导体层,和设在所述第1半导体层之上、由带隙比所述第1半导体层大的未掺杂或n型氮化物半导体构成的第2半导体层;控制电极,设在所述层叠体的主面上的第1区域内;第1以及第2主电极,分别设在所述层叠体的主面上的与所述第1区域的两端相邻的第2以及第3区域内;以及第3主电极,在所述层叠体的主面上夹着所述第2主电极而设在与所述控制电极相反的一侧。
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