[发明专利]红外敏感平版印刷版原版有效
| 申请号： | 200610115624.3 | 申请日： | 2006-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN1924699A | 公开（公告）日： | 2007-03-07 |
| 发明（设计）人： | 河内几生 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/14 | 分类号： | G03F1/14 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 柳春琦 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种红外敏感平版印刷版原版，其包含：载体；提供在所述的载体的一个表面或之上的能够通过红外辐照形成图像的记录层，所述的记录层包含水不溶性而碱溶性的树脂以及红外吸收剂；和提供在所述载体另一个表面或之上的有机聚合物层，其中当形成所述的有机聚合物层时，使用溶剂，并且残余在所述有机聚合物层中的溶剂的总量相对于每g有机聚合物为10mg或更低。 | ||
| 搜索关键词： | 红外 敏感 平版印刷 原版 | ||
【主权项】：
1.一种红外敏感平版印刷版原版，其包含：载体；提供在所述的载体的一个表面或之上的、能够通过红外辐照形成图像的记录层，所述的记录层包含水不溶性而碱溶性的树脂以及红外吸收剂；和提供在所述载体另一个表面或之上的有机聚合物层，其中当形成所述的有机聚合物层时，使用溶剂，并且在所述有机聚合物层中残余的溶剂的总量相对于每g有机聚合物为10mg或更低。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
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