[发明专利]用于投影物镜像差检测的测试标记、掩模及检测方法有效
申请号: | 200610116545.4 | 申请日: | 2006-09-27 |
公开(公告)号: | CN1928722A | 公开(公告)日: | 2007-03-14 |
发明(设计)人: | 马明英;王向朝;王帆 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F1/00;H01L21/027 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人: | 王洁 |
地址: | 201203上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种用于光刻机投影物镜像差检测的测试标记、具有该测试标记的掩模以及光刻机投影物镜像差现场检测的方法。现有的投影物镜像差检测方法存在无法检测高阶像差或检测算法过于复杂等问题。本发明的用于光刻机投影物镜像差检测的测试标记,包括一正方形的内部标记和围绕该内部标记两两正交排列的四组外部标记,其中,所述的每一组外部标记由至少两种不同线宽的线条按周期密集排列形成,且所述的四组外部标记的周期相同。采用本发明的测试标记、掩模及检测方法不仅能实现低阶像差与高阶像差的同时测量,而且检测过程和算法都比较简单,同时能达到较高的像差检测精度。 | ||
搜索关键词: | 用于 投影 物镜 检测 测试 标记 方法 | ||
【主权项】:
1、一种用于光刻机投影物镜像差检测的测试标记,包括一正方形的内部标记和围绕该内部标记两两正交排列的四组外部标记,其特征在于:所述的每一组外部标记由至少两种不同线宽的线条按周期密集排列形成,且所述的四组外部标记的周期相同。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备有限公司,未经上海微电子装备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610116545.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种双频率高温光栅的制作方法
- 下一篇:一种表面裂纹的谐振涡流检测方法