[发明专利]钨酸铅晶体的制备方法无效

专利信息
申请号: 200610116726.7 申请日: 2006-09-29
公开(公告)号: CN1966782A 公开(公告)日: 2007-05-23
发明(设计)人: 万尤宝 申请(专利权)人: 嘉兴学院;嘉兴市晶英光电子技术有限公司
主分类号: C30B29/32 分类号: C30B29/32;C30B11/00
代理公司: 上海开祺知识产权代理有限公司 代理人: 李兰英;杨润周
地址: 314001*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种钨酸铅晶体的制备方法,它包括如下步骤:原料预处理;将预处理后的原料即PbWO3注入置有籽晶的生长坩埚,顶部预留0.1-0.6倍于晶体长度的空间,然后包装好;对坩埚内预留空间部分进行抽真空,然后再注入1个大气压的氧气,密封坩埚;将坩埚置于下降炉内接种、生长,炉温控制在1200-1250℃,坩埚下降速率1mm/h;晶体生长结束后按30℃/h速度降温至950℃退火5小时;将生成的钨酸铅晶体在退火炉中按照30℃/h升温至1000℃,恒温5小时使之退火,然后再按照30℃/h降温至室温;将得到的钨酸铅晶体按照既定规格切割、抛光即可得到成品。
搜索关键词: 钨酸铅 晶体 制备 方法
【主权项】:
1.一种钨酸铅晶体的制备方法,其特征在于包括如下步骤:(1)原料预处理:将纯度为99.99%的PbO和WO3原料在200℃恒温4小时烘干除去水分,按照化学计量比称量,混合均匀后900℃预烧结,然后将烧结后的原料在1200℃熔化后恒温半小时,混合均匀,生成PbWO3;(2)将预处理后的原料即PbWO3注入置有籽晶的生长坩埚,顶部预留0.1-0.6倍于晶体长度的空间,然后包装好;(3)对坩埚内预留空间部分进行抽真空,然后再注入1个大气压的氧气,密封坩埚;(4)将坩埚置于下降炉内接种、生长,炉温控制在1200-1250℃,坩埚下降速率1mm/h;(5)晶体生长结束后按30℃/h速度降温至950℃退火5小时;(6)将生成的钨酸铅晶体在退火炉中按照30℃/h升温至1000℃,恒温5小时使之退火,然后再按照30℃/h降温至室温;(7)将经过第5步处理的钨酸铅晶体按照既定规格切割、抛光即可得到成品。
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