[发明专利]采用终点检测系统对同一种膜质进行研磨的方法有效
申请号: | 200610116939.X | 申请日: | 2006-10-09 |
公开(公告)号: | CN101161414A | 公开(公告)日: | 2008-04-16 |
发明(设计)人: | 王海军;蔡晨;谢煊;程晓华 | 申请(专利权)人: | 上海华虹NEC电子有限公司 |
主分类号: | B24B49/02 | 分类号: | B24B49/02;H01L21/304;H01L21/306 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人: | 王函 |
地址: | 201206上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种采用终点检测系统对同一种膜质进行研磨的方法,包括如下步骤:步骤1,产品到来之后,测量前值;步骤2,在凹凸区域用小于50rpm的低转速和小于4psi的低压力进行研磨,进行终点检测,抓到特征点后停止研磨;步骤3,用正常的转速50-120rpm和正常的压力4-8psi继续研磨,根据研磨时间研磨至后值规格。该方法能提高研磨产品的平整度,减少研磨的时间,既能提高产量又能节约成本。 | ||
搜索关键词: | 采用 终点 检测 系统 一种 进行 研磨 方法 | ||
【主权项】:
1.一种采用终点检测系统对同一种膜质进行研磨的方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1,产品到来之后,测量前值;步骤2,在凹凸区域用小于50rpm的低转速和小于4psi的低压力进行研磨,进行终点检测,抓到特征点后停止研磨;步骤3,用正常的转速50-120rpm和正常的压力4-8psi继续研磨,根据研磨时间研磨至后值规格。
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