[发明专利]一种屏蔽盖的制造方法和利用该方法制造的屏蔽盖有效

专利信息
申请号: 200610117182.6 申请日: 2006-10-16
公开(公告)号: CN101166412A 公开(公告)日: 2008-04-23
发明(设计)人: 林世寅;马震宇 申请(专利权)人: 英华达(上海)电子有限公司
主分类号: H05K9/00 分类号: H05K9/00;G12B17/02
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 逯长明
地址: 200233上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种屏蔽盖的制造方法,该屏蔽盖固定在一电路板上,包括屏蔽框和屏蔽框盖,用一屏蔽隔离条分别与屏蔽框和屏蔽框盖固定,并在屏蔽隔离条上喷涂导电介质。本发明还提供一种采用上述方法制造的屏蔽盖。本发明提供的屏蔽隔离条,在能有效解决屏蔽盖内另有接地部分以隔离电子模块的问题的同时,还确保了屏蔽盖的屏蔽作用,并可方便电子工程师在电路板上布局。
搜索关键词: 一种 屏蔽 制造 方法 利用
【主权项】:
1.一种屏蔽盖的制造方法,该屏蔽盖固定在一电路板上,包括屏蔽框和屏蔽框盖,该方法包括如下步骤:提供一将电路板上不同模块隔离的屏蔽隔离条;在该屏蔽隔离条上喷涂导电介质;将屏蔽隔离条固定于屏蔽框上,并使屏蔽隔离条与电路板接触;将屏蔽框盖置于屏蔽隔离条和屏蔽框上方,并将其与屏蔽隔离条和屏蔽框分别固定。
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