[发明专利]一种用于微光刻的照明光学系统有效
| 申请号： | 200610117226.5 | 申请日： | 2006-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN101165594A | 公开（公告）日： | 2008-04-23 |
| 发明（设计）人： | 李仲禹;李铁军 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明是一种用于微光刻的照明光学系统，涉及用于半导体光刻机的照明系统。所述的照明光学系统基于来自光源的光束照明一个照明场，它从物侧开始依次包括：扩束器、第一微透镜阵列模块、衍射光学模块、变焦透镜、第二微透镜阵列模块和聚光镜，且所述的第二微透镜阵列模块内还设置有第一和第二刀口阵列对。采用本发明的照明光学系统可以获得光强均匀的照明光瞳和一维梯形光强分布的照明场，并且具有多种照明模式。此外，该照明光学系统在改变照明光瞳的过程中不损失光能，并且具有较高的光学透过率。本发明的照明光学系统可用于248nm、193nm或者其他波长的光刻机上。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 微光 照明 光学系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于微光刻的照明光学系统，基于来自光源的光束照明一个照明场，其特征在于，所述的照明光学系统从物侧开始依次包括：扩束器、第一微透镜阵列模块、衍射光学模块、变焦透镜、第二微透镜阵列模块和聚光镜，且所述的第二微透镜阵列模块内还设置有第一和第二刀口阵列对。
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