[发明专利]新型2,4位修饰的1－去羟基巴卡亭VI衍生物及其制备方法无效
| 申请号： | 200610118157.X | 申请日： | 2006-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN1962664A | 公开（公告）日： | 2007-05-16 |
| 发明（设计）人： | 林海霞;王佃龙;韩娜;王晓洪;许斌 | 申请（专利权）人： | 上海大学 |
| 主分类号： | C07D493/04 | 分类号： | C07D493/04;C07D305/14 |
| 代理公司： | 上海上大专利事务所 | 代理人： | 顾勇华 |
| 地址： | 200444*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及新型2，4位修饰的1－去羟基巴卡亭VI衍生物即4，9，10－三去乙酰基－4－(3－羰基)丁酰基－2－去苯甲酰基－2－取代芳甲酰基－9，10－O－异亚丙基－1－去羟基巴卡亭VI和4，9，10－三去乙酰基－4－(2－甲基－3－羰基)戊酰基－2－去苯甲酰基－2－取代芳甲酰基－9，10－O－异亚丙基－1－去羟基巴卡亭VI及其制备方法，属有机在成药物技术领域。本发明设计了一条选择性强、操作简单的合成路线，实现了1－去羟基巴卡亭VI衍生物C2苯甲酰基和C4乙酰基的结构修饰，合成了新型衍生物。 | ||
| 搜索关键词： | 新型 修饰 羟基 巴卡亭 vi 衍生物 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种新型2，4位修饰的1-去羟基巴卡亭VI衍生物即4，9，10-三去乙酰基-4-(3-羰基)丁酰基-2-去苯甲酰基-2-取代芳甲酰基-9，10-O-异亚丙基-1-去羟基巴卡亭VI，其特征在于具有如下的分子结构式：![]()
R是取代芳基。
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