[发明专利]用于晶片对准的对准标记结构无效
| 申请号： | 200610118707.8 | 申请日： | 2006-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN1963679A | 公开（公告）日： | 2007-05-16 |
| 发明（设计）人： | 徐荣伟;李铁军 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于晶片对准的对准标记结构，该对准标记结构包括第一部分结构和分布在第一部分结构外围区域的第二部分结构，第二部分结构由四组光栅组成，其中两个光栅用于垂直方向对准，另外两个光栅用于水平方向对准。与现有技术相比，本发明的对准标记结构不仅用于晶片对准，还可用于掩模对准或套刻(Overlay)精度测试等。此外，本发明所述的对准标记结构紧凑、对准捕获范围大、适用于较窄的晶片划线槽，能够提高光刻装置对准系统的对准精度和工艺适应性。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 晶片 对准 标记 结构 | ||
【主权项】：
1、用于晶片对准的对准标记结构，其特征在于：该对准标记结构包括第一部分结构和分布在第一部分结构外围区域的第二部分结构，第二部分结构由四组光栅组成，其中两个光栅用于垂直方向对准，另外两个光栅用于水平方向对准。
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