[发明专利]测试标记及利用该标记检测光刻机成像质量的方法有效
| 申请号： | 200610118708.2 | 申请日： | 2006-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN1963676A | 公开（公告）日： | 2007-05-16 |
| 发明（设计）人： | 马明英;王向朝;王帆 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种测试标记，其包括密集线条标记，该测试标记形成在光刻机系统的掩模上，所述测试标记至少包括四个密集线条标记，且每个密集线条标记均由相邻的一个密集线条标记旋转90度得到。本发明还提供一种利用该标记检测光刻机成像质量的方法。与现有技术相比，本发明利用测试标记的线宽变化，实现了最佳焦面，像面倾斜，像散，球差等轴向像质参数的精确测量，同时，可检测最佳焦面，像面倾斜，像散和球差，且直接利用检测时得到的数据，通过最小二乘法计算得到光刻机轴向像质参数，克服了先前技术中无法检测球差与数据处理繁琐的不足。 | ||
| 搜索关键词： | 测试 标记 利用 检测 光刻 成像 质量 方法 | ||
【主权项】：
1、一种测试标记，其包括密集线条标记，该测试标记形成在光刻机系统的掩模上，其特征在于：所述测试标记至少包括四个密集线条标记，且每个密集线条标记均由相邻的一个密集线条标记旋转90度得到。
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