[发明专利]曝光机载片台的清洁方法及系统有效
| 申请号： | 200610118835.2 | 申请日： | 2006-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN101192010A | 公开（公告）日： | 2008-06-04 |
| 发明（设计）人： | 黄良志 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00;B23Q1/00;B08B5/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 逯长明 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种曝光机载片台表面的清洁方法，包括：获得载片台表面微粒缺陷的位置信息，根据所述位置信息，移动所述载片台，使得所述微粒缺陷位于气体喷口和排气口下方；通过所述气体喷口向所述载片台表面喷出气体，并通过所述排气口将所述气体排出。一种曝光机载片台表面清洁系统，包括：定位装置，具有气体喷口的喷气管；具有排气口的排气管；用于控制所述喷气管喷气和排气管排气的控制装置；本发明曝光机载片台表面清洁系统及方法可节省清洁时间，减小对曝光机载片台下面基底的磨损，并提高曝光机的利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 机载 清洁 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种曝光机载片台表面的清洁方法，包括：获得载片台表面微粒缺陷的位置信息，根据所述位置信息，移动所述载片台，使得所述微粒缺陷位于气体喷口和排气口下方；通过所述气体喷口向所述载片台表面喷出气体，并通过所述排气口将所述气体排出。
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