[发明专利]金属有机物化学气相沉积设备的反应腔体有效
申请号: | 200610118970.7 | 申请日: | 2006-12-01 |
公开(公告)号: | CN101191201A | 公开(公告)日: | 2008-06-04 |
发明(设计)人: | 甘志银;刘胜;罗小兵;徐天明 | 申请(专利权)人: | 甘志银 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所 | 代理人: | 李平 |
地址: | 201203上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 金属有机物化学气相沉积设备的反应腔体,主要包括反应气体进气管道、反应气体缓冲腔、喷淋口、石墨舟、基座、基座支撑架、排气口和腔体外壳,所述反应气体A从反应腔体顶端接入,进入反应腔体后沿基座形成水平方向的层流扩散,反应气体B进气管道同轴包裹在反应气体A进气管道外表,伸入反应腔体后向水平方向沿伸,末端设有反应气体缓冲腔及竖直方向的喷淋口,基座安装在基座支撑架之上,排气口设置在反应腔体的底部,石墨舟嵌装在基座上。本发明的优点是缓冲腔的结构使反应气体进入反应腔后形成水平气流,减弱了竖直喷淋气流的反弹回流并减轻反应气体局部湍流,反应腔体设计具有可扩展性。 | ||
搜索关键词: | 金属 有机物 化学 沉积 设备 反应 | ||
【主权项】:
1.一种金属有机物化学气相沉积设备的反应腔体,主要包括:反应气体A进气管道(1)、反应气体B进气管道(2)、反应气体缓冲腔(3、3’)、喷淋口(4)、石墨舟(5)、基座(6)、基座支撑架(7)、排气口(8)和腔体外壳(9),其特征在于所述反应气体A进气管道(1)从反应腔体顶端接入,基座(6)设置在其下方,反应气体B进气管道(2)同轴包裹在反应气体A进气管道(1)外表,伸入反应腔体后向水平方向沿伸,反应气体B进气管道(2)的末端设有反应气体缓冲腔(3)及竖直方向的喷淋口(4),喷淋口(4)到基座(6)上表面反应面的距离可以根据喷淋口的喷口分布以及气体流速进行选择从而使材料生长的厚度均匀,基座(6)安装在基座支撑架(7)之上,排气口(8)设置在反应腔体的底部,石墨舟(5)嵌装在基座(6)上。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的