[发明专利]一种颗粒膜TbFeCo的制备方法无效

专利信息
申请号: 200610119293.0 申请日: 2006-12-07
公开(公告)号: CN1962931A 公开(公告)日: 2007-05-16
发明(设计)人: 周仕明;刘尊;焦新兵 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/14;C23C14/08;C23C14/54;G11B5/851
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 代理人: 陆飞;盛志范
地址: 20043*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提出一种制备TbFeCo颗粒膜的新方法。传统的TbFeCo薄膜常用作磁光以及光磁混合材料。薄膜的抗热扰动能力差。不同于传统的薄膜生长方法,本发明采用直流磁控溅射与射频磁控溅射共溅的方法,TbFeCo直流溅射,非磁性介质SiO2等射频溅射。这种制备颗粒膜的新方法改善了材料的性能,提高了材料的热稳定性。
搜索关键词: 一种 颗粒 tbfeco 制备 方法
【主权项】:
1、一种制备颗粒膜TbFeCo方法。其特征在于采用射频磁控溅射非磁性介质与直流磁控溅射TbFeCo共溅的方法,其中,真空溅射设备的本底真空度为5.0×10-5Pa以下,氩气保护,氩气压为0.8-1.0Pa,非磁性介质为隔离层,材料为SiO2、NiO或MgO,TbFeCo为记录层。
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