[发明专利]用于磁共振断层造影仪的表面线圈装置有效
申请号: | 200610121334.X | 申请日: | 2006-08-21 |
公开(公告)号: | CN1916655A | 公开(公告)日: | 2007-02-21 |
发明(设计)人: | 卡特林·沃尔法思 | 申请(专利权)人: | 西门子公司 |
主分类号: | G01R33/3415 | 分类号: | G01R33/3415 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 邵亚丽;李晓舒 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种用于磁共振断层造影仪的表面线圈装置,包括设置在第一天线(1)上的线圈元件(2)的装置,其中,该第一天线(1)可以至少扩展其它的天线(3,5),后者同样携带至少一个线圈元件(4,5)的装置,并且可以松开或移动地固定在该第一天线(1)上。 | ||
搜索关键词: | 用于 磁共振 断层 造影 表面 线圈 装置 | ||
【主权项】:
1.一种用于磁共振断层造影仪的梯度系统的表面线圈装置,包括设置在第一天线(1)上的线圈元件(2)的装置,其中,该第一天线(1)可以至少扩展一个其它天线(3,5),后者同样携带一个至少有一个线圈元件(4,5)的装置,其特征在于,所述其它天线(3,5)通过导轨固定在该第一天线(1)上或者相互固定,使得线圈阵列装置(2,4,6)通过天线(1,3,5)的拉开或收缩而可以在一个方向上拉长或缩短,其中,当线圈元件(2,4,6)重叠在第一天线(1)和其它天线(3,5)上时可使各线圈元件(2,4,6)失效以防止重叠伪影。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西门子公司,未经西门子公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610121334.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。