[发明专利]相位分布及相位校正方法和装置以及磁共振成像方法和装置无效
| 申请号： | 200610121526.0 | 申请日： | 2000-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN1920592A | 公开（公告）日： | 2007-02-28 |
| 发明（设计）人： | 三好光晴 | 申请（专利权）人： | GE医疗系统环球技术有限公司 |
| 主分类号： | G01R33/565 | 分类号： | G01R33/565 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王忠忠 |
| 地址： | 美国威*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 为了即使存在局部干扰时也能计算精确的相位图并执行这种相位校正，对通过磁共振成像得到的图像进行低通滤波(702)，检测其滤波后的值与滤波前的值的比值不超过预定比值的像素位置(704)，计算除这些点的像素数据外的相位分布，从邻近像素位置的相位来估计所述被排除点的相位而提供补偿，以便使相位图完整。 | ||
| 搜索关键词： | 相位 分布 校正 方法 装置 以及 磁共振 成像 | ||
【主权项】：
1.一种相位校正方法，它包括如下步骤：对通过磁共振成像得到的图像进行低通滤波，以产生低通滤波图像；根据所述低通滤波图像来计算相位分布，以提供所计算的相位分布；根据所述计算的相位分布来对所述低通滤波前的图像进行相位校正，以提供相位校正图像；对所述相位校正图像进行低通滤波，以提供新的低通滤波图像；根据所述新的低通滤波图像来计算新的相位分布，以提供新的计算相位分布；以及根据所述新的计算相位分布来对所述相位校正图像进行相位校正。
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