[发明专利]等离子体处理装置和高频电力供给装置有效
| 申请号： | 200610121598.5 | 申请日： | 2004-02-12 |
| 公开（公告）号： | CN101064987A | 公开（公告）日： | 2007-10-31 |
| 发明（设计）人： | 速水利泰;岩崎征英;高平淳一;渡部一良;小松真一;佐佐木雄一 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社;新电元工业株式会社 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 浦柏明;刘宗杰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的等离子体处理装置包括：处理容器，其内部可减压；第1电极，配置在所述处理容器内；处理气体供给部件，用于将处理气体供给到所述处理容器内；高频电源部，输出具有VHF带频率的高频电力；匹配器，与所述高频电源部和所述第1电极电连接，获得阻抗的匹配；以及传输线路，从所述高频电源部至所述匹配器传输所述高频电力。在所述处理容器内可配置被处理基板，通过传输到所述第1电极的所述高频电力产生的等离子体，可对该被处理基板实施等离子体处理。所述传输线路比可产生所述高频电力的第3高次谐波的谐振状态的最短长度短。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 高频 电力 供给 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：处理容器，其内部可减压；第1电极，配置在所述处理容器内；处理气体供给部件，用于将处理气体供给到所述处理容器内；高频电源部，输出具有VHF带频率的高频电力；匹配器，与所述高频电源部和所述第1电极电连接，获得阻抗的匹配；以及传输线路，从所述高频电源部至所述匹配器传输所述高频电力，在所述处理容器内配置被处理基板，通过传输到所述第1电极的所述高频电力产生的等离子体，对该被处理基板实施等离子体处理，所述传输线路比可产生所述高频电力的第3高次谐波的谐振状态的最短长度还要短。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社;新电元工业株式会社，未经东京毅力科创株式会社;新电元工业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200610121598.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：光学轨迹球装置
- 下一篇：含有碱金属高氯酸盐的气体发生剂
