[发明专利]用于激光诱导热成像的膜供体装置有效

专利信息
申请号: 200610121985.9 申请日: 2006-08-30
公开(公告)号: CN1923530A 公开(公告)日: 2007-03-07
发明(设计)人: 李承铉;成研周;宋明原;俞炳旭;姜泰旻;成镇旭;鲁硕原;金茂显;金善浩 申请(专利权)人: 三星SDI株式会社
主分类号: B41M5/26 分类号: B41M5/26
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 代理人: 韩明星;刘奕晴
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明公开了一种用于激光诱导热成像(LITI)设备的膜供体装置和利用其制造电子装置的方法。LITI设备包括腔室、基底支撑件、接触框架以及激光源或者振荡器。LITI设备将可转移层从膜供体装置转移到半成电子装置的表面上。LITI设备使用磁力提供可转移层和半成品装置的表面之间的紧密接触。在实施例中,磁性材料形成在LITI系统的隔开的两个部件中,可转移层和在其上可转移层被转移的表面介于上述两个部件之间,即,一个部件位于可转移层之上,另一部件位于所述表面之下。磁体或者磁性材料形成在LITI设备的下面两个部件中:半成品装置和膜供体装置;半成品装置和接触框架;基底支撑件和膜供体装置或者基底支撑件和接触框架。
搜索关键词: 用于 激光 诱导 成像 供体 装置
【主权项】:
1、一种用于激光诱导热成像的膜供体装置,所述装置包括:基底;可转移膜层,被构造成当足够量的热施加到其上时,其一部分被转移,所述可转移膜层包括有机材料;磁性层,包括磁体,其中,所述磁性层介于所述基底和所述可转移膜层之间,或者所述基底介于所述磁性层和所述可转移膜层之间。
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