[发明专利]主动光学位相共轭方法及装置有效

专利信息
申请号: 200610124657.4 申请日: 2006-09-29
公开(公告)号: CN1932565A 公开(公告)日: 2007-03-21
发明(设计)人: 李志扬 申请(专利权)人: 李志扬
主分类号: G02B6/26 分类号: G02B6/26;G02B27/00
代理公司: 武汉宇晨专利事务所 代理人: 王敏锋
地址: 430079湖北省武汉市洪*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明涉及一种主动光学位相共轭方法及基于主动光学位相共轭的成像装置和光开关,属于光学成像和集成技术领域。它采用光波导阵列构成模式分离/合成转换器,这些光波导在一端靠拢放置,光场互相耦合,在另外一端分开放置,彼此隔离。进一步通过模式分离/合成转换器把光波分解并引导到彼此隔离的光波导,然后在这些彼此隔离的光波导中通过简单的位相和振幅调节实现主动光学位相共轭。它解决了大尺寸高像质三维立体显示、超快速变焦、远距离和高能激光精确聚焦等一些极限条件下的成像问题。适用于计算机人机交换,机器人视觉,集成电路光刻,体信息存储,军事,能源,生物与光通讯网络领域。
搜索关键词: 主动 光学 位相 共轭 方法 装置
【主权项】:
1、一种主动光学位相共轭方法,当进行共轭发射时它包括如下步骤:A、把相干照明光波输入具有模式分解和合成作用的光波导结构,在彼此隔离的光波导中产生只存在基模的光场;B、把假想目标分解为三维空间光点的线性集合,按照同一线性集合关系把每个三维空间光点经过A步骤中同一具有模式分解和合成作用的光波导结构后在彼此隔离的光波导中产生的基模光场进行叠加,在每根光波导中获得一个总光场;C、对A步骤中获得的彼此隔离的光波导中的基模光场进行位相和振幅调整,使得它们正比于B步骤中获得的同一光波导中的总光场的光学位相共轭;对C步骤中获得的彼此独立的光波导中的光场一一进行反射,使得它们逆向通过A和B步骤中同一具有模式分解和合成作用的光波导结构。
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