[发明专利]增加内量子效率的半导体发光二极管的量子阱结构有效
申请号: | 200610124789.7 | 申请日: | 2006-10-18 |
公开(公告)号: | CN1937267A | 公开(公告)日: | 2007-03-28 |
发明(设计)人: | 刘伟 | 申请(专利权)人: | 武汉华灿光电有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01S5/343 |
代理公司: | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 | 代理人: | 朱必武 |
地址: | 430223湖北省武汉市东*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种增加内量子效率的半导体发光二极管的量子阱结构,其特征在于:将原位电子俘获发射层3或原位空穴俘获发射层4通过具有高隧穿几率的隧穿势垒层5与量子阱层2连接,层1,3或4,5和2组成一个周期,进行重复,周期数可选择从1至10,最上和最下层均为势垒层1;原位电子俘获发射层3或原位空穴俘获发射层4的厚度介于1nm至3nm。这种结构作为有源层,可以有效地增加电子或空穴的俘获几率,从而提高氮化镓基蓝绿光发光二极管内量子效率,增加其发光效率。 | ||
搜索关键词: | 增加 量子 效率 半导体 发光二极管 结构 | ||
【主权项】:
1、一种增加内量子效率的半导体发光二极管的量子阱结构,其特征在于:将原位电子俘获发射层(3)或原位空穴俘获发射层(4)通过具有高隧穿几率的隧穿势垒层(5)与量子阱层(2)连接,层(1),(3)或(4),(5)和(2)组成一个周期,进行重复,周期数可选择从1至10,最上和最下层均为势垒层(1);原位电子俘获发射层(3)或原位空穴俘获发射层(4)的厚度介于1nm至3nm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华灿光电有限公司,未经武汉华灿光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610124789.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。