[发明专利]增加内量子效率的半导体发光二极管的量子阱结构有效

专利信息
申请号: 200610124789.7 申请日: 2006-10-18
公开(公告)号: CN1937267A 公开(公告)日: 2007-03-28
发明(设计)人: 刘伟 申请(专利权)人: 武汉华灿光电有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01S5/343
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 代理人: 朱必武
地址: 430223湖北省武汉市东*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 一种增加内量子效率的半导体发光二极管的量子阱结构,其特征在于:将原位电子俘获发射层3或原位空穴俘获发射层4通过具有高隧穿几率的隧穿势垒层5与量子阱层2连接,层1,3或4,5和2组成一个周期,进行重复,周期数可选择从1至10,最上和最下层均为势垒层1;原位电子俘获发射层3或原位空穴俘获发射层4的厚度介于1nm至3nm。这种结构作为有源层,可以有效地增加电子或空穴的俘获几率,从而提高氮化镓基蓝绿光发光二极管内量子效率,增加其发光效率。
搜索关键词: 增加 量子 效率 半导体 发光二极管 结构
【主权项】:
1、一种增加内量子效率的半导体发光二极管的量子阱结构,其特征在于:将原位电子俘获发射层(3)或原位空穴俘获发射层(4)通过具有高隧穿几率的隧穿势垒层(5)与量子阱层(2)连接,层(1),(3)或(4),(5)和(2)组成一个周期,进行重复,周期数可选择从1至10,最上和最下层均为势垒层(1);原位电子俘获发射层(3)或原位空穴俘获发射层(4)的厚度介于1nm至3nm。
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