[发明专利]硅粉表面刻蚀装置

摘要

硅粉表面刻蚀装置，属于等离子体应用，目的在于缩短反应时间，减化结构，提高硅粉纯化效率。本发明反应室上连接投料罐、出料罐和刻蚀气体输送系统，反应室内平行装有板式阳极和阴极，阴极与水冷装置连接，水冷装置通过密封波纹管与反应室底部活动连接，水冷装置底端通过振动转换杆连接振动源；密封波纹管、振动转换杆和振动源位于底架上，底架与反应室底部固定连接并安装于倾角调整支架上。本发明倾斜式的振动阴极使粉粒总处于阴极表面附近缓慢下滑，振动使粉粒均布于阴极，打散硅粉团块，该处离子能量最高刻蚀速率也高，下滑时间高达5至10分钟，因此可一次处理满足刻蚀要求；由于只采用氩气进行物理刻蚀，非常有利于环保和操作人员健康。

主权项

1.一种硅粉表面刻蚀装置，反应室上连接投料罐、出料罐和刻蚀气体输送系统，反应室内平行装有板式阳极和阴极，板式阳极和阴极与放电电源电气连接；其特征在于：(1)所述阴极与水冷装置连接，水冷装置穿过反应室底部并通过密封波纹管与反应室底部活动连接，水冷装置底端通过振动转换杆连接振动源；(2)所述密封波纹管、振动转换杆和振动源位于底架上，底架与反应室底部固定连接；(3)所述底架安装于倾角调整支架上。